今天漓源環(huán)保給大家講解芯片生產(chǎn)線廢水處理方法，在半導(dǎo)體制造技術(shù)中，通過(guò)一系列的光刻、刻蝕、沉積、離子注入、研磨、清洗等工藝形成具有各種功能的半導(dǎo)體芯片，然后將所述半導(dǎo)體芯片進(jìn)行封裝和電性測(cè)試，并終形成終端產(chǎn)品。目前，在半導(dǎo)體芯片的制造過(guò)程中，會(huì)產(chǎn)生大量的工業(yè)廢水。

在現(xiàn)有的解芯片生產(chǎn)線廢水處理過(guò)程中，通常單獨(dú)使用序列間歇式活性污泥法(SBR)或生物接觸氧化法或曝氣生物濾池(BAF)，均只能對(duì)廢水進(jìn)行單一的處理，例如為過(guò)濾或微生物反應(yīng)或去除毒性等，由于處理方式過(guò)于單一，這常常導(dǎo)致過(guò)濾物質(zhì)很快堵塞的問(wèn)題。因此，廢水處理仍有改善的空間。

主要目的在于提供一種芯片生產(chǎn)線的廢水處理方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)存在的處理方式過(guò)于單一，這常常導(dǎo)致過(guò)濾物質(zhì)很快堵塞的問(wèn)題。

半導(dǎo)體芯片行業(yè)將生產(chǎn)廢水處理系統(tǒng)分為：含氨廢水處理系統(tǒng)、含氟廢水處理系統(tǒng)、CMP研磨廢水處理系統(tǒng)及酸堿廢水處理系統(tǒng)。

含氨廢水有兩部分，一部分是濃氨氮廢水，主要含氨氮和雙氧水，氨氮濃度達(dá)400～1200mg/L;另一部分是稀氨廢水，主要含氟化氨，氨氮濃度低于100mg/L。

含氟廢水處理系統(tǒng)

工藝中采用CaCl溶液代替?zhèn)鹘y(tǒng)去氟采用的消石灰，可減少氟化鈣污泥量、原料用量和堿液，同時(shí)，可避免粉態(tài)消石灰的逸散，防止管道堵塞，易于控制投加量，確保系統(tǒng)的穩(wěn)定高效運(yùn)行。

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